LP-CVD Tempress TS-61004-4, Inbetriebnahme: 2000

LP-CVD Tempress TS-61004-4

Kenngrößen
-
Refurbishment und Inbetriebnahme im Jahr 2000
- Wafergröße: 100 mm
- 4 Rohre mit je 3 Heizzonen
- Länger der Flat Zone (Temperaturregelung auf +/- 0,5 °C): 95-100 cm
- Anzahl Wafer pro Fahrt: 50-100
- Höhe: 2455 mm
- Gewicht: Beladestation: ca. 800 kg, Gassteuereinheit: ca. 1000 kg,
  Ofeneinheit: ca. 1500 kg
- Stromanschluss: 380V, 50Hz, 5 Phasen

Prozesse:
- Rohr 1: High-Temperature Oxide (HTO) / Siliziumnitrid (SiN)
- Rohr 2: High-Temperature Oxide (HTO) / Siliziumnitrid (SiN)
- Rohr 3: Polysilizium
- Rohr 4: Low-Temperature Oxide (LTO) / Phosphor-Silikatglas (PSG)

Bestandteile:
- Ofenteil
- Beladestation
- Gas Cabinet
- Steuerrechner

Detaillierte Beschreibung steht zum Download bereit.

Ansprechpartner: Herr Brauhardt, Tel: +49 (0) 361 65 73 36 0 E-Mail: Diese E-Mail-Adresse ist vor Spambots geschützt! Zur Anzeige muss JavaScript eingeschaltet sein!

Location

Frage zum Produkt